Inkron invierte en la infraestructura de desarrollo de componentes de realidad aumentada

inkron imagescms image 000003521Inkron, una empresa del Grupo Nagase, líder mundial de materiales de litografía de nanoimpresión (NIL) basados en siloxano y ópticamente claros, hace una inversión estratégica en la infraestructura de desarrollo de materiales y componentes de NIL. La inversión acelerará significativamente el desarrollo por parte de Inkron de los materiales ópticos de alto rendimiento necesarios en los componentes críticos de las gafas de realidad aumentada (AR), los sensores 3D y otros elementos ópticos difractivos (DOE). La capacidad de Inkron para proporcionar a sus clientes materiales ópticos NIL personalizados con un rápido tiempo de respuesta y un mejor rendimiento se mejorará significativamente con esta inversión. Ahora Inkron también puede proporcionar a sus clientes servicios de prototipos de componentes y fabricación de pequeñas series.

La piedra angular de la inversión es la compra e instalación de un sistema UV NIL automatizado EVG®7200 de EV Group (EVG). El sistema EVG 7200 aprovecha la innovadora tecnología SmartNIL® de EVG y su experiencia en materiales para permitir la fabricación en masa de estructuras micro y nanoescalares con una calidad inigualable. El sistema proporciona una impresión de baja fuerza y conformada, una rápida exposición de alta potencia y un suave desprendimiento del sello con un rendimiento sin igual y un bajo coste de propiedad. El sistema EVG 7200 con tecnología SmartNIL es ideal para la producción en volumen de dispositivos fotónicos de próxima generación, incluyendo guías de ondas y DOE, para aplicaciones como la AR y la realidad virtual (VR). Además de estas características, la herramienta que se ha enviado a Inkron incluye una estación UV de alta intensidad, un mandril calefactado y soporte para soft-UV-NIL para aplicaciones de moldeo de microlentes.
Inkron ofrece materiales procesables NIL en un amplio rango de índice de refracción (RI), incluso hasta 2.0. Los materiales NIL se complementan con recubrimientos de sobrecapa, relleno de huecos y recubrimientos planificables con RI tan bajos como 1,1. La combinación de estas plataformas de materiales y el sistema EVG 7200 proporciona una infraestructura ideal para el desarrollo de nuevos componentes ópticos con un tiempo de respuesta acelerado, a la vez que permite una cuidadosa optimización de las resinas y del proceso para dispositivos específicos. Además del equipo NIL, Inkron ha hecho y sigue haciendo importantes inversiones en la fabricación de estructuras ópticas y equipos de prueba, incluidas las pruebas de rendimiento y fiabilidad de los dispositivos. Se ha establecido un equipo dedicado a apoyar el ecosistema del NIL de Inkron con científicos de materiales, ingenieros de procesos litográficos y expertos en fotónica, encabezados por el Vicepresidente Dr. Janne Kylmä. La parte comercial de las actividades del NIL está dirigida por el vicepresidente de operaciones de Inkron, el Sr. Jukka Perento.
"A través de nuestro Centro de Competencia de NILPhotonics, EV Group se asocia con empresas como Inkron de toda la cadena de suministro de fotónica para aprovechar nuestra tecnología y experiencia en NIL para acelerar el desarrollo de nuevos dispositivos y aplicaciones", declaró Markus Wimplinger, director de desarrollo de tecnología corporativa e IP de EV Group. "Trabajar con Inkron nos da la oportunidad de apoyar sus esfuerzos en el desarrollo de resistencias ópticas avanzadas que son críticas para la fabricación de dispositivos ópticos de próxima generación".
"Estamos entusiasmados por acelerar el desarrollo de nuestras nuevas, optimizadas e innovadoras tecnologías de resinas ópticas. El nuevo sistema EVG 7200 juega un papel vital en este movimiento estratégico. Estas nuevas capacidades nos ayudarán a abordar las hojas de ruta de rendimiento crítico de nuestros clientes y les ayudará a tener éxito", declaró Jukka Perento. "Nuestros materiales de alto índice de refracción nanoimprimibles y los correspondientes revestimientos de relleno de huecos, combinados con el sistema NIL de EVG, proporcionan las soluciones críticas a nivel de obleas que los fabricantes de óptica necesitan para ampliar rápidamente la producción de sus últimos desarrollos".
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