04252024
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枚葉式洗浄装置「SU-3400」を発売|プレスリリース|大日本スクリーン製造株式会社

世界最高水準の生産性と高い処理能力を実現した新装置を発売

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ (株式会社大日本スクリーン製造(本社:京都市上京区)の半導体ソリューション事業部は、枚葉式洗浄装置「SU-3400」※1を開発し、独自の洗浄技術により世界最高水準のスループット※2を実現しました。2022年12月より販売を開始しました。

近年、先端ロジックやメモリーなどの半導体デバイスは、回路パターンの微細化・高集積化が急速に進んでおり、ウエハー洗浄工程では、これまで以上に高いレベルのパーティクル除去が要求されています。そのため、優れた洗浄性能と安定した処理能力を兼ね備えた、高スループットの枚葉式洗浄装置のニーズが高まっています。

しかし、半導体デバイスの需要拡大に伴い、製造工程における環境負荷の低減が業界全体の課題となっています。そのため、装置稼働時の省エネルギー化、薬液の使用量削減など、製造工程における環境負荷の低減が課題となっています。

このような業界動向の中、当社は世界最高水準の生産性を実現する新しい枚葉式洗浄装置「SU-3400」の開発に取り 組んできました。本装置は、現在業界のデファクトスタンダードとなっている当社の「SU シリーズ」で培った高い洗浄性能を受け継いで います。

SU-3400 では、洗浄チャンバーを小型化し、6段のスタック式タワーを採用した新プラットフォームを採用しました。これにより、従来機と同じ 24 枚のチャンバー(※3)を搭載しながら、設置面積を約 30%削減しました。

また、革新的なウエハー搬送機構を採用し、単位面積当たりの生産性を大幅に向上させました。これにより、実用的な処理能力として最大 1,200 枚 / 時を実現し、業界をリードしています。

また、洗浄ノズルの改良と高効率な薬液循環システムの採用により、薬液の使用量を大幅に削減しました。また、全自動エアフロー制御の採用により、エアーの排出量も大幅に削減しました。これらの改善により、「SU-3400」は稼働時の環境負荷を最大で20%低減したと試算しています。

このほか、高解像度カメラによるチャンバー内のモニタリングなど、トラブルのない運転を実現するためのさまざまな機能を備えています。また、IoTを活用した故障検知やビッグデータ解析など、さまざまなサポート・メンテナンス機能の充実も図っています。

当社は今回、「SU-3400」を発売することで、半導体メーカーの多様なニーズに応えていく所存です。今後も洗浄装置のリーディングカンパニーとして、業界のさらなる発展に貢献していきます。
www.screen.co.jp

 

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