A Inkron, uma empresa do Grupo Nagase, líder mundial de materiais de nano-impressão óptica à base de siloxano, faz um investimento estratégico em infra-estruturas de desenvolvimento de materiais e componentes NIL. O investimento irá acelerar significativamente o desenvolvimento da Inkron de materiais ópticos de alto desempenho necessários em componentes críticos de óculos de realidade aumentada (AR), sensores 3D e outros elementos ópticos difractivos (DOE). A capacidade da Inkron de fornecer aos seus clientes materiais ópticos NIL personalizados com tempo de resposta rápido e melhor desempenho será significativamente melhorada com este investimento. Agora a Inkron pode também fornecer protótipos de componentes e serviços de fabrico de pequenas séries para os seus clientes.
A pedra angular do investimento é a compra e instalação de um sistema NIL UV automatizado EVG®7200 do EV Group (EVG). O sistema EVG 7200 aproveita a tecnologia inovadora e a perícia em materiais SmartNIL® da EVG para permitir o fabrico em massa de estruturas micro e nanoescala com qualidade inigualável. O sistema fornece impressão de baixa força e conformidade, exposição rápida de alta potência e descolamento suave do carimbo com um rendimento inigualável e baixo custo de propriedade. O sistema EVG 7200 com tecnologia SmartNIL é ideal para a produção em volume de dispositivos fotónicos da próxima geração, incluindo guias de ondas e DOEs, para aplicações tais como AR e realidade virtual (VR). Para além destas características, a ferramenta que foi enviada para Inkron inclui uma estação UV de alta intensidade, mandril aquecido e suporte para soft-UV-NIL para aplicações de moldagem de microlentes.
A Inkron oferece materiais processáveis NIL numa ampla gama de índices de refracção (RI), mesmo até 2,0. Os materiais NIL são complementados com sobrecapa, preenchimento de lacunas e revestimentos aplainados com RI tão baixo quanto 1,1. A combinação destas plataformas de materiais e o sistema EVG 7200 proporcionam uma infra-estrutura ideal para o desenvolvimento de novos componentes ópticos com tempo de rotação acelerado, permitindo ao mesmo tempo uma optimização cuidadosa das resinas e do processo para dispositivos específicos. Para além do equipamento NIL, a Inkron fez e continua a fazer investimentos significativos no fabrico de estruturas ópticas e equipamento de teste, incluindo testes de desempenho e fiabilidade dos dispositivos. Foi criada uma equipa dedicada para apoiar o ecossistema NIL da Inkron com cientistas de materiais, engenheiros de processos litográficos e especialistas em fotónica, chefiada pela VP Dr. Janne Kylmä. A vertente comercial das actividades do NIL é dirigida pelo VP de Operações Inkron, Sr. Jukka Perento.
"Através do nosso Centro de Competência NILPhotonics, o EV Group estabelece parcerias com empresas como a Inkron de toda a cadeia de fornecimento de fotónica para aproveitar a nossa tecnologia e perícia NIL para acelerar o desenvolvimento de novos dispositivos e aplicações", declarou Markus Wimplinger, director de desenvolvimento de tecnologia corporativa e IP do EV Group. "Trabalhar com a Inkron dá-nos a oportunidade de apoiar os seus esforços no desenvolvimento de resistências ópticas avançadas que são críticas para o fabrico de dispositivos ópticos da próxima geração".
"Estamos entusiasmados por acelerar o desenvolvimento das nossas novas, optimizadas e inovadoras tecnologias de resinas ópticas". O novo sistema EVG 7200 desempenha um papel vital neste movimento estratégico. Estas novas capacidades ajudar-nos-ão a abordar os roteiros de desempenho crítico dos nossos clientes e ajudá-los-ão a ter sucesso", declarou Jukka Perento. "Os nossos materiais nano-imprimíveis de alto índice de refracção e os revestimentos de preenchimento de lacunas correspondentes, combinados com o sistema NIL do EVG, fornecem as soluções de nível crítico de wafer que os fabricantes de óptica necessitam para aumentar rapidamente a produção dos seus mais recentes desenvolvimentos".
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